美國Trion 高密度化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
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產(chǎn) 地：更新時間：2021-01-19 15:36
品 牌：型 號：Orion HDCVD
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| 美***Trion Technology
反應(yīng)式離子刻蝕(RIE/ICP)系統(tǒng)及沉積(PECVD)系統(tǒng) | | Trion始于***九八九年的等離子刻蝕與沉積系統(tǒng)制造商，Trion為化合物半導(dǎo)體、MEMS(微機電系統(tǒng))、光電器件以及其他半導(dǎo)體市場提供多種設(shè)備。我們的產(chǎn)品在業(yè)內(nèi)以系統(tǒng)占地面積*小、成本低而著稱，且設(shè)備及工藝的可靠性和穩(wěn)定性久經(jīng)考驗。從整套的批量生產(chǎn)用設(shè)備，到簡單的實驗室研發(fā)用系統(tǒng)，盡在Trion。 Trion提供升***及回收方案給現(xiàn)有Matrix客戶。 |
美***Trion Orion HDCVD高密度化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
型號：Trion Orion HDCVD Orion HDCVD 高密度氣相化學(xué)沉積系統(tǒng)采用高密度的化學(xué)氣相沉積技術(shù)，在惰性氣體進入口安裝感應(yīng)線圈，周圍布置陶瓷管。射頻創(chuàng)建等離子體,通過氣體環(huán)在襯底表面附近引入揮發(fā)性氣體。當(dāng)惰性氣體與揮發(fā)性物質(zhì)結(jié)合時，會發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，然后在襯底表面沉積***層薄膜. 該技術(shù)不需要將襯底加熱到典型的PECVD溫度，并且該方法非常適合沉積在有機物、柔性襯底和其它具有溫度限制的表面上。 射頻可通過Chuck改變薄膜性能。 該系統(tǒng)可以升***傳送Loadlock，或添加到集群平臺Cluster。 Orion HDCVD 高密度氣相化學(xué)沉積系統(tǒng)采用高密度的化學(xué)氣相沉積技術(shù)，在惰性氣體進入口安裝感應(yīng)線圈，周圍布置陶瓷管。射頻創(chuàng)建等離子體,通過氣體環(huán)在襯底表面附近引入揮發(fā)性氣體。當(dāng)惰性氣體與揮發(fā)性物質(zhì)結(jié)合時，會發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，然后在襯底表面沉積***層薄膜.
該技術(shù)不需要將襯底加熱到典型的PECVD溫度，并且該方法非常適合沉積在有機物、柔性襯底和其它具有溫度限制的表面上。 射頻可通過Chuck改變薄膜性能。 該系統(tǒng)可以升***傳送Loadlock，或添加到集群平臺Cluster。 | | | | | |
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